1um poorsest titaanist filtrikassett pooljuhtide märgtöötluseks

1 um poorne titaanfiltri kassett pooljuhtide märgtöötluseks tagab absoluutse -nimetatud osakeste peetuse agressiivses keemilises keskkonnas, kus polümeermembraanid paisuvad või lagunevad. See metallpulbriga paagutatud filter, mis on valmistatud rohkem kui 99,4% või 99,4% tööstuslikust kõrge -puhtusega titaanipulbrist külmisostaatilise pressimise ja kõrgel temperatuuril vaakumpaagutamise teel, saavutab selle metallipulbriga paagutatud filtri ühtlase mikropoorse struktuuri poorsusega 30-40% ja pooride suuruse jaotusega. API farmaatsiatootmise dekarboniseerimisfiltreerimisel püüab 1 μm paagutatud titaanist varrasfilter suure viskoossusega emalahustest kinni peened aktiivsöe jäägid ja katalüsaatori peenosakesed ning korduvkasutatava tagasipesuvõimega pikendab kasutusiga mitu korda kauem kui membraani alternatiivid. Märg-protsess pooljuhtide valmistamisel integreeritakse 1 um titaanipulbri paagutatud filtrid SC-1, SC-2, 49% HF ja HNO₃ voogude keemiliste tarneliinidesse, kus titaansubstraat on vastupidav kloriidivaba terasest varraste keskkonnas. 1 um täpsusaste eemaldab submikronilised räni sisaldavad tahked osakesed ja metallilised saasteained ilma osakesi levitamata, säilitades filtraadi puhtuse, mis on vajalik nanomeetriliste vahvlite töötlemiseks.

Kõrge -puhtusastmega veetöötluskontuurirakendustes kasutatakse pooljuhtide märgtöötlemiseks 1 um poorset titaanfiltri kassetti lõpliku turvafiltratsioonina enne ultrafiltrimist ja EDI-süsteeme, kus titaanipulbri paagutatud element talub perioodilist osooniga steriliseerimist ja auruga -paigal{3}}8 tsüklit kuni 20 kraadini. Erinevalt polüpropüleenist sügavusfiltritest või PTFE-membraanikassettidest, mis pehmenevad või kihistuvad termilise tsükli ajal, säilitab vaakum-paagutatud titaanmaatriks mõõtmete terviklikkuse kogu pH vahemikus 1-14 ja talub kuni 5,0 baari diferentsiaalrõhku ilma pooride struktuuri kokkuvarisemiseta. Täiustatud materjalide CMP lobri poleerimisaasad kasutavad 1 μm titaanfiltri kassette pärast vaigu adsorptsiooni etappe, et püüda kinni aglomeeritud abrasiivsed liiga suured osakesed, säilitades samal ajal kolloidse ränidioksiidi või tseeriumi suspensiooni osakeste suuruse jaotuse. Mitte-osakeste hajumise omadus ja võrgus taastatavus tagasiloputuse või ultrahelipuhastuse kaudu võimaldavad korduvat korduvkasutamist, vähendades filtrite vahetamise sagedust ja kasutuskulusid pidevatel pooljuhtide märjal töölaual.

Täpne filtreerimisreiting – 1 um poorne titaanfiltri kassett tagab absoluutse -nimetatud osakeste peetuse pooljuhtide märgtöötlusliinides, eemaldades submikronilised ränijäägid, metallilised saasteained ja geel{2}}sarnased osakesed agressiivsest keemiast, sh HF, SCNO-2 ja HF, SCNO-2.

Korrosioonikindlus äärmuslikes pH vahemikes – valmistatud vaakumpaagutamise teel 99,4% või rohkem puhtusega titaanipulbrist, see paagutatud titaanist filtrikassett talub pH 1–14 keskkonda, talub täppide tekkimist ja kloriidide rünnakut, mis lagundab kiiresti keemiliste filtrite jaotussüsteemid.

Kõrge termiline stabiilsus kuumade DIW- ja SIP-tsüklite jaoks – titaanpulbri paagutatud filter talub pidevat tööd 280 kraadi juures märgades tingimustes, toetades auruga -kohas (SIP) steriliseerimist ja kuuma deioniseeritud veega loputamist, ilma et see pehmendaks, delamineeriks või leostuks polüpropüleenist polüpropüleenist membraaniga kastidesse.

No particle shedding – Unlike depth filters or wound cartridges, the rigid sintered metal structure eliminates fiber release or media migration, maintaining ultrapure filtrate essential for nanometer-scale wafer fabrication where any foreign particle >0,5 μm põhjustab surmavaid seadme defekte.

Suurepärane tagasipesu taastatavus – 1 um poorne titaanfiltri kassett toetab veebipõhist tagasiloputust, ultrahelipuhastust ja happe regenereerimist, eemaldades kinnijäänud tahked ained ja taastades esialgse voolukiiruse kümnete korduskasutustsüklite jooksul, vähendades märkimisväärselt kasseti vahetamise sagedust ja töökulusid suure -mahuga seadmete puhul.

Kõrge diferentsiaalrõhu taluvus – vaakum{0}}paagutatud titaanmaatriks säilitab pooride struktuuri terviklikkuse kuni 5,0-baarise rõhu erinevuse korral, ületades membraanfiltreid, mis lagunevad või purunevad liigvoolude või pooljuhtide märgtöötlusseadmete ummistumise korral.

Kõrge -puhtusastmega kemikaalide jaotusliinid vahvlitoodetes – paigaldatud -kasutuskoha (POU) filtrikorpustesse 49% HF, HNO₃, NH₄OH, H₂SO₄ ja HCl voogude jaoks, 1 um paagutatud titaanist tolmufiltri ja metallilise silikoonfiltri kassett eemaldame enne pingid ja üksikud{5}}plaadiprotsessorid.

Osoonitud deioniseeritud vee (DIO₃) retsirkulatsiooniaasad – kasutatakse turvafiltrina{0}}CMP-järgsetes puhastus- ja fotoresisti eemaldamise tööriistades. 1 um poorne titaankassett talub kuni 20 ppm osooni kontsentratsiooni ja pidevat UV-kiirgust, kus polüpropüleenfiltrid muutuvad rabedaks ja PTFE membraanid kaotavad mehaanilise terviklikkuse.

CMP slurry polishing loops – final polish and bulk removal – Positioned after slurry blending tanks and before dispense arms for colloidal silica, ceria, or alumina slurries. The sintered titanium filter traps over-sized agglomerates (>1um), säilitades samal ajal natiivse osakeste suuruse jaotuse ja zeta potentsiaali, säilitades ühtlase eemaldamiskiiruse ja -vahvlite ebaühtluse (WIWNU) piires.

Post-CMP harjakasti puhastusvee filtreerimine – paigaldatakse deioniseeritud veetorudesse, mis toidavad PVA-harju, et pärast vahvli poleerimist kinni püüda abrasiivsed jääkosakesed ja vaseoonid. 1 um absoluutne hinnang hoiab ära mikrokriimustuste tekkimist vasel ja madala -k dielektrilise pinnaga pindadel kokkupuutel harjaga.

Ülipuhta vee (UPW) poleerimissilmuse lõplik turvafilter – asub enne -kasutus-kasutuspunkti (POU) ventiile märgsöövitus- ja loputusjaamades. Titaanpulbri filtrikassett töötab kuuma UPW (80 kraadi) ja perioodilise auruga steriliseerimise tsüklites ilma osakesi eraldamata, säilitades bakterite kontrolli ja osakeste arvu, mis jäävad alla klassi 1 nõuetele.

Elektrivabad nikli- ja koobaltkattevannid barjääri/seemnekihtide jaoks – integreeritud plaadistusvanni puhastusalustesse, et eemaldada stabilisaatoritest ja kompleksimoodustajatest tahkete osakeste saaste. Korrosioonikindel titaanmaatriks töötab kõrgetel temperatuuridel (70–90 kraadi) ja leeliselise pH juures ilma vesiniku hapruse või vannisaasteta.

Tel: 0917-3873009

Telefon: +86 18992731201

Meil:zhangjixia@bjygti.com

Faks: 0917-3873009

Aadress: No. 195, Gaoxin Avenue, High-tech Development Zone, Baoji City, Shaanxi, Hiina

Whatsapp: +86 18992731201

Kuum tags: 1um poorne titaanist filtrikassett pooljuhtide märgtöötlemiseks, Hiina, tarnijad, tootjad, kohandatud, kasutamine, hinnakiri, müügiks, laos, tasuta proov, poorne materjal