φ4,75 mm paagutatud poorsest titaanist koguja mikrovaakumseadmetele

Selle kõrge-puhtusastmega, pulber-metallurgiast-tuletatud struktuur tagab erakordse pinna-pindala-ja -mahu suhte. See arhitektuur maksimeerib aktiivseid kohti aktiivsete jääkgaaside kemisorbeerimiseks, tagades toatemperatuuril vesiniku ning termilisel aktiveerimisel hapniku, lämmastiku ja süsinikmonooksiidi kiire pumpamise kiiruse.

Tõelise mitte{0}}aurustuva getterina (NEG) välistab see osakeste või õhukese{1}}kile saastumise ohu. See omadus on ülimalt oluline tundliku mikro-optika, pooljuhtpindade ja katoodemitterite kaitsmiseks jõudlust -alandavate sademete eest, tagades seadme pikaealisuse ja töökindluse

Vaakumpaagutamise teel saavutatud tahkis{0}}difusioonside loob tugeva ühtse struktuuri. See disain on vastupidav murdumisele mehaanilise löögi ja vibratsiooni mõjul, tagades, et kogu selle tööea jooksul ei teki osakesi isegi pärast täielikku küllastumist ja murenemist.

Getter pakub laialdast tööühilduvust. Seda saab aktiveerida in situ laser- või takistussoojendusega ja see toimib tõhusalt laias temperatuurispektris, alates ümbritsevast keskkonnast vesiniku pumpamiseks kuni kõrgendatud temperatuurideni oksüdeerivate liikide kogumiseks.

See getter pakub võrreldamatut toatemperatuuri{0}}pumpamist vesinikule, mis on hermeetilistes pakendites esmane gaase eraldav toode. Selle suure-difusiooniga poorne maatriks võimaldab vesinikku kiiret adsorptsiooni ja ohutut ladustamist, takistades rõhu tõusu ja vähendades külgnevate komponentide vesiniku murenemise ohtu.

Materjali äärmiselt madal aururõhk ja minimaalne väljapaiskumine pärast aktiveerimist muudavad selle sobilikuks integreerimiseks süsteemidesse, mis on suunatud UHV ja XHV režiimidele. See aitab otseselt kaasa nende põlise vaakumitaseme saavutamisele ja säilitamisele, muutumata ise saasteallikaks.